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Picosecond Photoacoustic Metrology of SiO2 and LiNbO3 Layer Systems Used for High Frequency Surface-Acoustic-Wave Filters

机译:用于高频表面声波滤波器的SiO2和LiNbO3层系统的皮秒光声计量

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摘要

Many applications of thin films necessitate detailed information about their thicknesses and\udsound velocities. Here, we study SiO2/LiNbO3 layer systems by picosecond photoacoustic metrology\udand measure the sound velocities of the respective layers and the film thickness of SiO2, which pose\udcrucial information for the fabrication of surface-acoustic-wave filters for communication technology.\udAdditionally, we utilize the birefringence and the accompanying change in the detection sensitivity\udof coherent acoustic phonons in the LiNbO3 layer to infer information about the LiNbO3 orientation\udand the layer interface.
机译:薄膜的许多应用都需要有关其厚度和超声速度的详细信息。在这里,我们通过皮秒光声计量学研究SiO2 / LiNbO3层系统\ ud,并测量各层的声速和SiO2的膜厚,这为制造用于通信技术的表面声波滤波器提供了至关重要的信息。\此外,我们利用双折射和LiNbO3层中相干声子的检测灵敏度\ ud的伴随变化来推断有关LiNbO3方向\ ud和层界面的信息。

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